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【产品介绍】 

采用远程等离子体源,在其中通入反应气体后,在远程等离子体源腔室中产生等离子体,向反应腔室中输出中性自由基,自由基与样品表面的光刻胶或有机膜产生化学反应,生成气态挥发物,达到去除光刻胶和有机膜的工艺要求。

微波方式产生高密度等离子体,去胶效率高,去胶更彻底,微波发生方式的自偏压基本为零,离子对样片的轰击最小,对样片的损失最小;

自主知识产权设计的匀流盘,有利于等离子体均匀输入,以提高等离子体的均匀性,设计紧凑,占地少,节约实验室空间。

【产品特点】

  l 由反应腔室、真空获得系统、功率源、蒸汽生成装置、气路系统、样品台、真空检测系统、电气控制系统、控制软件等组成

  l 去除材料包括:光刻胶、SU-8光刻胶、有机膜等

  l 去除温度:100-280

  l 反应腔室采用6061进口航空铝材

  l 真空获得系统为高端干泵

  l 可根据需求配备≤8英寸标准晶圆尺寸样品台,也适合小尺寸碎样 

  l 采用高端微波功率源

  l 配备O2H2ON2工艺气体,预留一路气路,配有进口高精度质量流量计,精准控制反应气体流量

  l 配置高精度工艺真空规和集成调压阀,精确控制工艺压力

  l 工艺流程全自动,带有工艺数据库,提供推荐的工艺菜单

  l 机台安全机制由软硬互锁(interlock)两级组成,配有互锁、报警等安全措施

  l 带有干法清洗功能,避免腔室污染,保证工艺稳定性及重复性
【产品配置及指标】

  l 反应腔室:                         1套;

  l 真空获得系统:                 1

  l 样品台:                            1

  l 功率源:                             1套,频率2.45GHz

  l 反应气路及质量流量计:  O2H2ON2,预留一路气体

  l 真空检测系统:                 1

  l 电气控制系统:                 1

  l 控制软件:                         1

  l 选配loadlock自动传输系统

【主要应用】

      主要用于ICMEMS、光电子、LED等领域的光刻胶去除工艺

地址:江苏省邳州市辽河西路8号B1楼三层 电话:+86 516 86291377

邮箱:sales@leuven-instruments.com